控制速度快,动态量围广

真空沉积和深反应离子刻蚀(DRIE)等现代半导体加工工艺需要对各种气体进行快速控制。我们的质量流量控制器能够非常快速地控制/切换工艺气体并同时保证质量。

清洁处理

采用深反应离子刻蚀(DRIE)工艺对晶圆表面做清洁处理时,工艺气体的更换必须非常迅速。Sensirion质量流量控制器具有超快响应速度,可提高处理质量。

超快处理速度

采用深反应离子蚀刻(DRIE)工艺处理晶圆时,必须迅速更换不同工艺气体。我们的质量流量控制器具有超短响应时间,可加快工艺速度。

长期稳定性

质量流量控制器可长期保持高度稳定性,因此系统无需暂停运行以重新校准。

Sensirion如何设计解决方案

快速的质量流量控制器

多年来,Sensirion快速、精准、可靠的质量流量控制器一直为DRIE半导体处理行业的领先供应商提供支持。

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